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★★★★☆

4.1 étoiles sur 5 de 545 avis

2012-06-11
Elaboration de couches de tin par dépôt chimique en phase gazeuse - de Hélène de Baynast (Author)

Caractéristiques Elaboration de couches de tin par dépôt chimique en phase gazeuse

Les données ci-dessous contient des informations utiles sur Elaboration de couches de tin par dépôt chimique en phase gazeuse

Le Titre Du LivreElaboration de couches de tin par dépôt chimique en phase gazeuse
Date de Parution2012-06-11
TraducteurEnaya Shizuko
Quantité de Pages236 Pages
La taille du fichier34.51 MB
LangageFrançais et Anglais
ÉditeurBurning Deck Press
ISBN-101849371175-TLD
Type de LivrePDF ePub AMZ MBP PDB
ÉcrivainHélène de Baynast
Digital ISBN629-8286594181-EEZ
Nom de FichierElaboration-de-couches-de-tin-par-dépôt-chimique-en-phase-gazeuse.pdf

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Le procédé de dépôts chimiques à partir d’une phase gazeuse a connu depuis son développement originel bien des variantes Les températures d’élaboration ont été abaissées avec l’utilisation de plasma et de lasers comme sources d’énergie

Le dépôt chimique en phase vapeur ou CVD pour langlais chemical vapor deposition est une méthode de dépôt sous vide de films minces à partir de précurseurs gazeux

Elle dépend du mode d’élaboration et des réactions chimiques qui interviennent selon que le dépôt se forme directement à partir de la phase gazeuse réactions homogènes sans réaction du dépôt avec le substrat ni diffusion à l’état solide il se compose d’une couche suivant le


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